·能高效去除挥发性有机物（VOC）、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，除臭效率高。
·无需对恶臭气体进行特殊的预处理，设备工作环境温度在-30度~95度之间，湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作，无需添加其他物质及药剂参与处理。
·设备占地面积小，运行维护操作简单，设备能耗低，（每处理1000立方米/小时，仅耗电约0.8度电能），设备风阻极低＜50pa，可节约大量排风动力能耗。
·适应性强，适用气体种类多，可连续和间歇运行。
Gelor®-UV紫外光触媒催化氧化净化技术是集高能高臭氧紫外光光解技术、纳米光触媒催化氧化技术于一体，工艺原理如下：
利用UV紫外线光束照射废气，裂解废气分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等；
利用UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧，UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3，臭氧具有强氧化能力，对异味气体有立竿见影的清除效果；
催化剂在受到紫外线光照射时生成化学活性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基，攻击有机物，达到降解有机物的作用。
光催化工艺原理图
·能高效去除挥发性有机物（VOC）、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，除臭效率高。
·无需对恶臭气体进行特殊的预处理，设备工作环境温度在-30度~95度之间，湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作，无需添加其他物质及药剂参与处理。
·设备占地面积小，运行维护操作简单，设备能耗低，（每处理1000立方米/小时，仅耗电约0.8度电能），设备风阻极低＜50pa，可节约大量排风动力能耗。
·适应性强，适用气体种类多，可连续和间歇运行。